科毅科技股份有限公司 核准設立
最後更新時間 2025/05/05 , 02:55 AM
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負責人
林憲維
統一編號
27285346
成立日期
2004/05/06
資本額
300,000,000元
實收資本額
138,585,900元
股票代號
電話
03-4852036
地址
桃園市楊梅區高上里高獅路863巷10號
董監事
姓名 職稱 持有股份 代表法人
林憲維 董事長 27.86% 佑創實業有限公司
鄧惠玲 董事 27.86% 佑創實業有限公司
朱有亮 董事 27.86% 佑創實業有限公司
朱秋好 監察人 1.28%
營業項目
  • 電子器材、電子設備批發(464211)
  • 電子及半導體生產用機械設備製造(292800)
  • 公司歷程
  • 資本額變更為300,000,000
    2020/07/08
  • 資本額變更為150,000,000
    2018/12/21
  • 資本額變更為67,120,000
    2017/06/23
  • 資本額變更為63,000,000
    2016/10/05
  • 資本額變更為60,000,000
    2015/12/21
  • 公司負責人變更為林憲維
    2015/06/17
  • 公司地址變更為桃園市楊梅區高上里高獅路863巷10號
    2014/01/17
  • 資本額變更為45,870,420
    2014/01/17
  • 同地址公司
    員工人數
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    財務報表
    動產抵押
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    案件類別 債務人名稱 債務人統編 契約啟始日期 契約終止日期 抵押權人名稱 抵押權人統編 擔保債權金額
    存款不足之退票事宜
    時間 金額
    選舉收入(政治獻金)
    收入名稱 收入金額
    總收入金額 0
    選舉支出(政治獻金)
    支出名稱 支出金額
    總支出金額 0
    標案拒往
    機關名稱 公告日期 生效日期 截止日期 期間
    進出口資料
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    年份 月份 總進口實績(美金) 總出口實績(美金)
    2025 01-02 0~50萬 0~50萬
    2024 01-12 50~100萬 100~200萬
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    商標
  • M & R
  • 專利
  • 晶圓曝光機及其無接觸之晶圓曝光機之平整方法
  • 晶圓曝光機及其無接觸之晶圓曝光機之平整方法
  • 下對位之晶元曝光機
  • 晶圓曝光機
  • 晶圓膠膜移除裝置
  • 曝光機之晶圓邊緣與光罩間之楔形誤差補償的水平與俯仰角自動整平機構
  • 具有同軸光源部之輔助對位裝置
  • 曝光機之萬向定位裝置之整平機構
  • 曝光機之晶圓邊緣與光罩間之楔形誤差補償的水平與俯仰角自動整平機構
  • 光罩清潔設備及光罩清潔方法
  • 工廠
    地區 數量
    桃園市_生產中 1
    總數量 1
    政府標案
    標案名稱 機關名稱 決標日期 決標金額 是否得標
    高精度雷射直寫曝光系統設備1套 國立中山大學 113/12/10
    桌上型4吋曝光機1台 國立臺北科技大學 113/07/31 1850000.0
    曝光機光源模組、晶片光罩結合馬達定位與教學模組採購案 國立高雄科技大學 113/06/04 8100000.0
    旋轉塗佈機 國立臺灣大學 112/12/12 515000.0
    半導體學院白光干涉儀1台 明新學校財團法人明新科技大學 112/11/01 2390000.0
    光罩對準曝光機一套 國立陽明交通大學 112/09/18
    B112000135半導體工程系-採購對位式曝光機 龍華科技大學 112/08/07
    半導體學院廠務人才培育基地教學設備1批 明新學校財團法人明新科技大學 112/04/27 12050000.0
    曝光機升級套件 M&R AG500-SLC 圖號:1110922 共1ST 私立明志科技大學 112/01/11 1309000.0
    光罩對準曝光機(背面對準系統擴充) 國立陽明交通大學 111/03/18 1210000.0
    半導體工程系曝光機維修案 國立高雄科技大學 110/10/18 590000.0
    紫外光曝光系統1台 國立雲林科技大學 110/06/01 369000.0
    電源供應器 國立臺灣大學 109/03/23 218190.0
    微影曝光機組一組 國立臺灣科技大學 108/11/05 715000.0
    光罩對準曝光機一台 國立交通大學 108/07/16 4900000.0
    小型PCB製程設備 (簡易曝光機) 國立清華大學 108/06/21 495000.0
    手動曝光機 行政院原子能委員會核能研究所 105/12/20
    深紫外光曝光機組1台 國立雲林科技大學 105/09/08 350000.0
    光罩對準儀 詳規範 共1ST 私立長庚大學 105/03/31 1890000.0
    曝光機與旋轉塗佈機採購 國立高雄海洋科技大學 104/09/17 910000.0
    抽氣式藥品櫃4座 國立中興大學 104/05/26
    桌上型簡易曝光機 國立中正大學 104/03/31 570000.0
    B104000011簡易曝光機 私立龍華科技大學 104/03/24 570000.0
    單面對準曝光機 國立臺灣大學 103/12/26 900000.0
    曝光機之對位系統(含微控定位台修改與對準CCD系統) 國立臺灣大學 103/04/01 370000.0
    黃光對準曝光機 國立清華大學 102/08/07 1525000.0
    光阻旋轉塗佈機(Spin Coater)兩台 國立臺灣大學 101/11/14 328000.0
    光罩對準曝光機 共1ST 私立明志科技大學 101/08/01 2355000.0
    光罩對準系統 國立高雄師範大學 101/03/02
    UV曝光燈一組 國立新竹教育大學 101/02/14 508000.0
    光罩對準曝光機用汞燈10支 國立交通大學 101/02/03 445000.0
    350 W 4”紫外光曝光系統一套 國立交通大學 100/12/09 450000.0
    紫外光平行曝光源1套 國立中央大學 100/09/16
    對位光罩對準曝光系統一臺 國立清華大學 100/09/16 2580000.0
    旋轉塗佈機 萬能科技大學 100/08/31 180000.0
    光罩對準曝光機一套 國立交通大學 100/07/13 4380000.0
    9吋光罩 行政院原子能委員會核能研究所 100/06/29 110000.0
    機構對位平台 國立臺灣大學 100/05/05 250000.0
    扁平式大行程4”平行曝光燈源 國立臺灣大學 099/07/02 238000.0
    扁平式大行程6"平行曝光燈源壹組 國立成功大學 099/04/12 800000.0
    光電科技研究所扁平式大行程對位光刻系統乙套 國立臺灣師範大學 099/02/10 830000.0
    深次微米微影自動定位曝光機 詳規範:CHRISL15357 共1ST 私立長庚大學 099/02/03 1013000.0
    電漿蝕刻機 國防部軍備局中山科學研究院設施供應處 098/10/01
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    2024/03/05 性別平等工作法第13條第2項
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    污染類別 裁處時間 裁處機關 裁處金額 違反事實 違反法令 裁處書字號 裁處理由及法令 公司地址
    事業廢棄物 2021/03/15 桃園市 NT$6,000 該廠內產生之廢光阻劑及廢顯影劑混合廢液由塑膠容器承裝,後續由廠商攜回處理,惟未於清除前與受託處理者簽訂書面契約 廢棄物清理法第36條第1項,事業廢棄物貯存清除處理方法及設施標準第43條第1項 40-110-030039 違反廢棄物清理法第36條第1項及事業廢棄物貯存清除處理方法及設施標準第43條第1項之規定,並依廢棄物清理法第52條裁處。依環境教育法第23條第2款之規定裁處環境講習 桃園市楊梅區高獅路八六三巷一○號
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